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牛津儀器 OpAL原子層沉積(ALD)系統

名稱:其他儀器與工具

品牌:

型號:

簡介:原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積源。牛津儀器 OpAL原子層沉積(ALD)系統是一種帶有等離子體選項的直開式熱原...

  • 產品介紹
原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積源。牛津儀器 OpAL原子層沉積(ALD)系統是一種帶有等離子體選項的直開式熱原子層沉積(ALD)設備。 它可通過清晰而易行的途徑升級為等離子體 ALD,這樣便可在一個結構緊湊的設備上實現等離子體和熱ALD。
  • ALD產品家族涵蓋的系列設備可以滿足學術界、企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產的多種需求。

  • 實時監(jiān)測選項,包括與ALD控制軟件相聯的光譜橢偏儀。
  • OpAL系統可通過清晰而易行的途徑升級為等離子體,這樣便可在一個結構緊湊的設備上實現等離子體和熱ALD。

    • 緊湊型直開式熱原子層沉積(ALD)設備,帶有等離子選項

    • 適用于小尺寸至200mm的晶圓片

    • 蒸汽吸取或鼓泡四種液體或固體前驅體

    • 實時檢測選項,包括與ALD控制軟件相聯的光譜橢偏儀

     

牛津儀器 OpAL原子層沉積(ALD)系統特點

牛津儀器有大量的工藝儲備,并且還在不斷開發(fā)新的工藝。我們?yōu)樗械腁LD設備提供終身免費的、延續(xù)不斷的工藝支持,我們還將為您提供關于開發(fā)新材料的建議,同時繼續(xù)與您共享包括新工藝配方在內的新的ALD工藝進展。

可配備帶有樣品傳送入口的氮氣吹掃手套箱 - 適用于干燥環(huán)境

易于拆卸的內腔室 - 減少腔室清洗時間

機柜可安裝在抽氣管路上并附帶氮氣吹掃 - 以確保健康和安全的承諾

氣動起重裝置 - 用于安全打開腔室

可配備抽氣罩或氮氣吹掃手套箱 - 以確保健康和安全的承諾


牛津儀器 OpAL原子層沉積(ALD)系統應用

  • 納米電子
  • 高K柵氧化物
  • 存儲電容電介質
  • 用于Cu互連的高深寬比擴散隔層
  • 用于OLED和聚合物的無針孔鈍化層
  • 用于晶體硅太陽能電池的鈍化
  • 用于微流體和MEM的高保形涂層
  • 納米多孔結構的涂層
  • 生物MEMS
  • 燃料電池

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