牛津儀器 OpAL原子層沉積（ALD）系統
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簡介：原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積源。牛津儀器 OpAL原子層沉積（ALD）系統是一種帶有等離子體選項的直開式熱原...
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- 產品介紹
原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術, 可以準確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實現出色的表面預處理, 控制薄膜性質以及作為種類廣泛的沉積源。牛津儀器 OpAL原子層沉積（ALD）系統是一種帶有等離子體選項的直開式熱原子層沉積（ALD）設備。 它可通過清晰而易行的途徑升級為等離子體 ALD，這樣便可在一個結構緊湊的設備上實現等離子體和熱ALD。
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ALD產品家族涵蓋的系列設備可以滿足學術界、企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產的多種需求。
- 實時監(jiān)測選項，包括與ALD控制軟件相聯的光譜橢偏儀。
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OpAL系統可通過清晰而易行的途徑升級為等離子體，這樣便可在一個結構緊湊的設備上實現等離子體和熱ALD。
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緊湊型直開式熱原子層沉積（ALD）設備，帶有等離子選項
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適用于小尺寸至200mm的晶圓片
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蒸汽吸取或鼓泡四種液體或固體前驅體
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實時檢測選項，包括與ALD控制軟件相聯的光譜橢偏儀
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牛津儀器 OpAL原子層沉積（ALD）系統特點
牛津儀器有大量的工藝儲備，并且還在不斷開發(fā)新的工藝。我們?yōu)樗械腁LD設備提供終身免費的、延續(xù)不斷的工藝支持，我們還將為您提供關于開發(fā)新材料的建議，同時繼續(xù)與您共享包括新工藝配方在內的新的ALD工藝進展。
可配備帶有樣品傳送入口的氮氣吹掃手套箱 - 適用于干燥環(huán)境
易于拆卸的內腔室 - 減少腔室清洗時間
機柜可安裝在抽氣管路上并附帶氮氣吹掃 - 以確保健康和安全的承諾
氣動起重裝置 - 用于安全打開腔室
可配備抽氣罩或氮氣吹掃手套箱 - 以確保健康和安全的承諾
牛津儀器 OpAL原子層沉積（ALD）系統應用
- 納米電子
- 高K柵氧化物
- 存儲電容電介質
- 用于Cu互連的高深寬比擴散隔層
- 用于OLED和聚合物的無針孔鈍化層
- 用于晶體硅太陽能電池的鈍化
- 用于微流體和MEM的高保形涂層
- 納米多孔結構的涂層
- 生物MEMS
- 燃料電池
